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华林科纳湿化学工艺测试平台面向CSE用户开放!



  华林科纳半导体湿法工艺实验平台于2019年完成建设,实验室提供湿法工艺实验验证和核心功能模块演示服务。由于工艺实验涉及纳米尺度的工艺,对实验环境有特定的需要,因此配备了专门的隔离空间及回风过滤系统,也

  华林科纳半导体湿法工艺实验平台于2019年完成建设,实验室提供湿法工艺实验验证和核心功能模块演示服务。

  由于工艺实验涉及纳米尺度的工艺,对实验环境有特定的需要,因此配备了专门的隔离空间及回风过滤系统,也配备了超纯水DIW、压缩干燥空气CDA以及废气处理系统等工艺辅助设施,已能够满足用户产品及工艺的快速验证。

  湿法刻蚀清洗可以提供2”-12”晶圆的湿法刻蚀实验台、超声兆声清洗实验台、IPA干燥慢提拉实验机、甩干机(立式、卧式)、CDS供液系统等不同类型的设备,能够满足绝大多数用户在刻蚀、清洗、电(化学)镀、干燥的工艺验证需求。具体可进行验证工艺实验名称见下表:

  核心功能模块演示包括超声兆声功能、自动配液功能、但2017年已回落到万。白小姐一句玄机诗中特,循环功能、过滤功能、加热功能、制冷功能、恒温功能、抛动晃动功能等。

  自动配液:主要用于湿法腐蚀清洗等工序需要使用的腐蚀液集中进行配送,经管道配送至使用端;具有自动化程度高、配比精确(达到2)、操作简便等特点,具有耐腐蚀性,可适用于:HF、HNO3、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、H2O2、IPA等。

  恒温控温:采用电子冷热交换器,当设定好制程药液所需温度,由控制单元精准控制,则无需别的操作。通过外接循环水的温度,将药液温度控制精度达到0.5℃,电子冷热器内部温度控制精度达到0.1℃,保证多批次清洗、刻蚀效果一致。

  IPA干燥:IPA干燥是利用IPA的低表面张力和易挥发的特性,取代硅片表面的具有较高表面张力的水分,然后用热N2吹干,达到彻底干燥硅片水膜的目的。

  离心甩干:离心甩干通过外力使晶片短时间内达到高速旋转的状态,晶片表面的水受到离心力作用而从表面消失的干燥技术。这种干燥方式由于简单可靠,在晶片清洗领域得到了广泛应用。根据晶片运动方式的不同,离心甩干又分为立式离心甩干(0~3000转)和水平式离心甩干(0~1200转),虽然二者的脱水原理相似,但是由于运动方式的不同,在工艺上有很大的差异。

  超声兆声:超声兆声主要针对Particle清洗,不同频率擅长清洗不同大小的颗粒。

  随着以SiC(碳化硅)、GaN(氮化镓)和GaAs(砷化镓)为代表的第三代半导体材料及器件的开发,作为新兴半导体产业的核心和基础,其研究开发呈现出日新月异的发展势态。

  新的材料的引入必将带来新的技术变革,实验平台基于半导体技术未来发展趋势,将在以SiC、GaN和GaAs为衬底材料的特种半导体湿法工艺开展先导技术开发,为新技术的测试验证提供免费的服务,面向CSE用户开发,在现有工艺技术基础上深挖技术潜能,全面促进已有技术在新行业背景下的应用。



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